Tantalpentoxid-Nanopulver  (Ta2O5 HW-T502) ist das Material mit besonderen Eigenschaften und potenziellen Anwendungen und verfügt über die folgenden Eigenschaften:

Kleine Partikelgröße : Die Partikelgröße von Ta2O5-Nanopulver liegt normalerweise im Nanometerbereich (zehn bis hundert Nanometer), mit großer spezifischer Oberfläche und hohem Verhältnis von spezifischer Oberfläche zu Volumen, was zu seiner einzigartigen Leistung in verschiedenen Anwendungen beiträgt.

Hohe Oberflächenaktivität : Ta2O5-Nanopulver verfügt über eine größere Oberfläche und bietet dadurch aktivere Oberflächen, die die Interaktion mit anderen Substanzen erleichtern und dadurch seine Anwendungsbereiche erweitern.

Hochtemperaturstabilität : Ta2O5 weist eine ausgezeichnete Hochtemperaturstabilität und Korrosionsbeständigkeit auf, wodurch eine gute Leistung und Strukturstabilität in Hochtemperaturumgebungen aufrechterhalten werden kann. Dadurch wird Ta2O5-Nanopulver häufig in Hochtemperaturprozessen und -geräten eingesetzt.

Elektrische Leistung : Ta2O5 hat eine hohe Dielektrizitätskonstante und einen geringen dielektrischen Verlust, wodurch es ein gutes Potenzial für die Anwendung in elektrischen Geräten hat.

Optische Leistung : Ta2O5-Nanopulver hat einen hohen Brechungsindex und Transparenz im sichtbaren und ultravioletten Lichtbereich sowie hervorragende optische Absorptions- und Fluoreszenzeigenschaften, sodass es in optischen Beschichtungen, optischen Geräten, optischen Sensoren und anderen Anwendungen verwendet werden kann.

Gleichzeitig können Keramiktargets auf Basis von Ta2O5-Nanopulver in der Filmabscheidung, optischen Beschichtung, Vorbereitung optoelektronischer Geräte und anderen Bereichen eingesetzt werden. Durch die Kontrolle des Herstellungs- und Verarbeitungsprozesses von Nanopulver können keramische Materialien mit hoher Reinheit, Gleichmäßigkeit und Kontrollierbarkeit erhalten werden. Im Folgenden sind einige Anwendungen von Ta2O5-Nanopulver als Keramiktargets aufgeführt:

Halbleitertechnologie : Ta2O5 wird häufig in Dünnschichtabscheidungsprozessen wie der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) in der Halbleitertechnologie verwendet. Durch die Anwendung hochenergetischer Teilchenstrahlen oder Hochtemperatur-Reaktionsgase auf das Zielmaterial kann Tantaloxid auf dem Substrat abgeschieden werden, um dünne Filme zu bilden, die gute dielektrische Eigenschaften und Barriereschichtfunktionen in Halbleiterbauelementen aufweisen.

Optische Beschichtung : Aufgrund seines hervorragenden Brechungsindex und seiner Transmissionseigenschaften kann Tantaloxid im Bereich optischer Beschichtungen eingesetzt werden. Ta2O5-Dünnfilme können zur Herstellung optischer Geräte wie Spiegel, transparenter leitfähiger Filme und optischer Filter verwendet werden.

Solarzellen : Ta2O5 kann zur Herstellung transparenter leitfähiger Schichten in Solarzellen verwendet werden. Durch die Abscheidung laserstrukturierter Tantaloxid-Dünnfilme auf transparenten leitfähigen Schichten kann die Lichtabsorptions- und Elektronenübertragungseffizienz von Solarzellen verbessert werden.

Anti - reflektierende Beschichtung : Ta2O5-Dünnfilm kann zur Herstellung von Antireflexbeschichtungen verwendet werden, um den Reflexionsverlust von Licht auf der Oberfläche optischer Komponenten zu reduzieren. Diese Beschichtungen werden häufig in Bereichen wie optischen Instrumenten, optischen Geräten und Bildschirmen eingesetzt.

Hongwu Nano liefert Ta2O5-Pulver mit 100–150 nm und die Partikelgröße kann angepasst werden. Wenn Sie an unserem Ta2O5-Nanopulver interessiert sind, können Sie uns gerne eine Anfrage senden.